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氮氣烘箱在掩膜版工藝中的應用
來源: | 作者:雋思半導體設備部 | 發布時間: 2024-01-08 | 831 次瀏覽 | 分享到:
氮氣烘箱,掩膜板烘箱

氮氣烘箱,掩膜板烘箱應用

  在掩膜版的生產制造過程中,掩膜版基板在光阻涂布后會有一個烘烤的環節,又稱為前烘。目的是用加熱蒸發的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶劑,增強光阻與掩膜版基板之間的粘附力,并使光阻起到固化的作用;同時,涂覆光阻后的掩膜版在曝光顯影后也需要做顯影后烘,目的是祛除掩膜版上多余的水分、殘留溶劑和消除駐波效應。

  掩膜版制作工藝,包括如下步驟:S1、涂膠:提供一光學高分子PC復合板材,在所述光學高分子PC復合板材表面旋涂抗反射中性密著層,在所述抗反射中性密著層上旋涂中性UV光刻膠;S2、光刻:通過光刻直寫掩膜機對中性UV光刻膠進行激光曝光;S3、顯影:將光刻后的光學高分子PC復合板材置于一顯影槽進行浸泡顯影,所述顯影槽內設有顯影液;S4、堅膜。

氮氣烘箱,掩膜板烘箱性能

全周激光滿焊,SUS304#不銹鋼電熱產生器,防機臺本身產生微塵;

采用特殊風道,水平送風,溫度均勻性佳;

可定值運行,多段程序運行;

設備采用雙腔室一體設計,獨立控制,節省空間;

溫度范圍: RT+10~200、300/400℃;

溫度均勻度:≤±1.5℃;

潔凈度:class100/1000,適用潔凈間;

設備尺寸:定制

計時功能:0~ 99H99M可調,到溫計時,計時完成蜂鳴并停止加熱;

降溫方式:可選配

保溫材料:超細陶瓷纖維;

隔 板:1-10層,;

溫度測量傳感器:高精度鉑電阻;



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