就
是
對
待
工
作
的
態
度
，
個產品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數據
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智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由來
來源:
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作者:雋思半導體設備部
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發布時間: 2022-05-27
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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由來
半導體工藝中需要在各種襯底上進行光刻膠涂布，黏附性是否良好是最大的問題。黏附差導致嚴重的側面腐蝕，線條變寬，甚至有可能導致圖形全部消失，濕法刻蝕技術要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。
提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個步驟：
a、涂膠前進行脫水堅膜;
b、使用黏附促進劑，即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;
c、高溫后烘。
完成以上工藝僅用我司生產的HMDS真空烘箱即可。
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制儀表：人機界面，一鍵運行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無油渦旋真空泵
HMDS真空烘箱也稱為智能型HMDS真空系統 將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
