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近期我司抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 抗黏劑氣相沉積系統再次進入科研系統。

    科研系統主要研究領域及學科方向包括光電跟蹤測量、光束控制、自適應光學、天文目標光電觀測與識別、先進光學制造、航空航天光電設備、微納光學及微電子光學、生物醫學光學等。建有微細加工光學技術國家重點實驗室、中國科學院光束控制重點實驗室、中國科學院自適應光學重點實驗室、中國科學院空間光電精密測量技術重點實驗室，和光電工程總體研究室等10個創新研究室，以及中科院成都幾何量及光電精密機械測試實驗室；還建有精密機械制造、先進光學研制、輕量化鏡坯研制、光學工程總體集成、質量檢測等5個研制中心，以及科技信息中心等技術保障中心。目前承擔有國家重點研發計劃、自然科學基金、部委重大重點項目及企業委托開發項目研究，研究水平居國內領先或國際先進。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  抗黏劑氣相沉積系統

    硅烷偶聯劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領域有著廣泛應用。

應用領域： 半導體：晶圓光刻前疏水性處理、掩膜板疏水性處理、LED芯片工藝、藍寶石、貴金屬、硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料等。平板顯示器：用于大規模生產高性能顯示面板。 太陽能電池：提高薄膜太陽能電池的生產效率和性能。航空航天新材料：陶瓷纖維板材疏水性處理。手機平板：抗指紋、防水處理等。納米壓印：納米壓印脫模階段。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統性能

內部容積： 20-5000L

材質： 外箱冷軋板烤漆或優質SUS#304不銹鋼，內腔采用316L醫用不銹鋼

控制方式：人機界面+PLC

溫度范圍 ：RT-450℃

波動度 ：≤±0.5

真空度： ≤1torr

電源及總功率 ：220V/380V   

真空泵 ：無油泵

半導體設備廠商上海雋思儀器，硅烷氣相沉積設備、精密熱板、HMDS預處理系統烘箱、智能型HMDS真空預處理系統烘箱、MSD超低濕烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱，氮氣烘箱、無氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空儲存柜、超低溫試驗箱、超低濕試驗箱等環境可靠性設備。