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數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)在光刻工藝中的應(yīng)用

來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2022-04-27 | 1103 次瀏覽 | 分享到:

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)在光刻工藝的烘烤目的

光刻工藝中需要烘烤的步驟有：預(yù)烘培和底漆涂敷、軟烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤。

軟烘烤將光刻膠從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)，增強(qiáng)光刻膠在晶體表面的附著力；

PEB（曝光后烘烤）的目的是降低駐波效應(yīng)；

硬烘烤的目的是除去光刻膠內(nèi)的殘余溶劑、增加光刻膠的強(qiáng)度，并通過(guò)進(jìn)一步的聚合作用改進(jìn)光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力，增強(qiáng)了光刻膠的附著力。

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)的用途

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)用于晶圓的單面烘烤，可用于預(yù)烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake堅(jiān)膜)工藝。適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復(fù)性好。

加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸定制

控溫范圍：室溫--200、300/400/500/600℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃

溫度均勻性：≤±0.5/1℃

可選配功能：

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邊緣支撐pin

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烘焙距離可調(diào)模組

真空腔體

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